什么是光刻機(jī)

  光刻機(jī)(Mask Aligner)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

  生產(chǎn)集成電路的簡要步驟：

  利用模版去掉晶圓表面的保護(hù)膜。

  將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護(hù)膜的部分被腐蝕掉后形成電路。

  用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)。

  其中曝光機(jī)就是利用紫外線通過模版去掉晶圓表面的保護(hù)膜的設(shè)備。

  一片晶圓可以制作數(shù)十個(gè)集成電路，根據(jù)模版曝光機(jī)分為兩種：

  模版和晶圓大小一樣，模版不動。

  模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機(jī)聚焦部分移動。

  其中模版隨曝光機(jī)移動的方式，模版相對曝光機(jī)中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為的主流

  光刻機(jī)的品牌眾多，根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類：

  投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機(jī)。光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的光刻機(jī))和日本Canon三品牌為主。

  位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。

  生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī)，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。