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      偉棋工業(yè)科技（中山）有限公司
      我廠專注配件加工多年
      ，經(jīng)驗豐富
      ，可做不同材質(zhì)
      ，不同型號的配件零件。
      偉棋工業(yè)科技（廣東）有限公司
      Weiqi Industry Technology (Guangdong) Co., Ltd.
      400-0818-013
      什么是光刻機
      光刻機（Mask Aligner）又名：掩模對準曝光機
      ，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等
      ，是制造芯片的裝備
      。它采用類似照片沖印的技術(shù)
      ，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
      2021-10-15 15:04:12
      
	  光刻機(Mask 
Aligner)又名：掩模對準曝光機
      ，曝光系統(tǒng)
      ，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的裝備
      。它采用類似照片沖印的技術(shù)
      ，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

      

      
	  生產(chǎn)集成電路的簡要步驟：

      

      
	  利用模版去掉晶圓表面的保護膜
      。

      

      
	  將晶圓浸泡在腐化劑中
      ，失去保護膜的部分被腐蝕掉后形成電路。

      

      
	  用純水洗凈殘留在晶圓表面的雜質(zhì)
      。

      

      
	  其中曝光機就是利用紫外線通過模版去掉晶圓表面的保護膜的設(shè)備
      。

      

      
	  一片晶圓可以制作數(shù)十個集成電路，根據(jù)模版曝光機分為兩種：

      

      
	  模版和晶圓大小一樣
      ，模版不動
      。

      

      
	  模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機聚焦部分移動
      。

      

      
	  其中模版隨曝光機移動的方式
      ，模版相對曝光機中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度
      。成為的主流

      

      
	  光刻機的品牌眾多
      ，根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類：

      

      
	  投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間
      ，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機
      。光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大
      ，只有少數(shù)幾家公司能夠制造
      。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的光刻機)和日本Canon三品牌為主
      。

      

      
	  位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機
      ，形成產(chǎn)品系列初步實現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作
      。

      

      
	  生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機為接近
      、接觸式光刻機，分辨率通常在數(shù)微米以上
      。主要有德國SUSS
      、MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

      

      
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